实验用高纯三氧化二铝晶体，实验用三氧化二铝颗粒，Al203膜料

三氧化二铝，氧化物，能溶于无机酸和碱性溶液中，几乎不溶于水及非极性有机溶剂;相对密度(d204)4.0;熔点2050℃。三氧化二铝常用作分析试剂、有机溶剂的脱水、吸附剂、有机反应催化剂、研磨剂、抛光剂、冶炼铝的原料、耐火材料。

一、物理性质：

化学符号：Al2O3

外   观:透明

密    度：4g/cm3

熔    点：2045℃   

沸    点：2980℃

蒸发温度：1800℃   

蒸发方式：电子束   

透明范围/nm：200-7000

折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600)

          基片温度为300℃时，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；

          基片温度为40℃时， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；

蒸发源材料:W 、Mo   

溶 解 于：纯酸、碱

薄膜的机械和化学性质：形成光滑的硬膜

性    能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，高纯超细氧化铝的优点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结；

应    用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜

用    途：广泛应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料；

二、主要用途：

A.高纯度4N-5N三氧化二铝颗粒用于蒸发镀制金属薄膜，应用于半导体芯片、光电器件、传感器、OLED等不同行业。

B.低纯3N-4N三氧化二铝颗粒颗用于常用来熔炼难熔金属和焊接钢轨，还用做炼钢过程中的脱氧剂。

三、适用领域：

蒸发镀膜

A.适用设备：蒸发镀膜设备、电子束蒸发镀膜设备等

B.适用设备品牌：国产品牌：中科科仪，金盛微纳，沈阳科仪等

进口品牌：爱发科，lesker，TOKKI，ULVAC，ULVAC，韩国SNU和SUNIC等

C. 适用规格：99.99%　1-3mm、靶材尺寸可定制